應用材料公司今天發布制造大尺寸、超高分辨率 (UHD) 液晶電視屏和 OLED 顯示屏的新技術設備，新技術設備能夠滿足消費者對顯示屏性能、清晰度、色彩和亮度的更高要求。設備進一步鞏固了應用材料公司在金屬氧化物 (MO) 薄膜技術領域的領導地位，實現制造高分辨率顯示屏所需的更小、更快薄膜晶體管 (TFT)。通過精密材料工程和生產革新，這些 PVD 和 PECVD 設備為未來金屬氧化物薄膜顯示屏的批量生產提供了最優化而具成本效益的解決方案。

    基于金屬氧化物的薄膜晶體管顯示技術能支持低功耗、高分辨率的智能手機、平板電腦以及OLED 電視。.未來的超高清（4K）電視也有望采用金屬氧化物薄膜晶體管顯示技術。應用材料公司 PVD 和 PECVD 設備及工藝所提供的膜質均勻性和微粒控制有助于客戶實現這一新型顯示屏技術，為大規模生產所需的高良品率提供保障。

    “我們新型 PVD 和 PECVD 設備使客戶能夠利用已經驗證的技術轉向金屬氧化物技術，加快顯示行業的發展進程，”應用材料公司高級副總裁、全球服務事業部與成長市場部總經理阿里‧沙勒普爾 (Ali Salehpour) 說。 “我們與客戶緊密合作開發這些解決方案來克服其在均勻性、微粒控制和穩定性上遇到的關鍵難題，解決運用過程中的主要障礙，尤其是在OLED 產品方面。我們通過將這些解決方案擴展至不同的玻璃基板尺寸，以支持我們客戶的各種產品策略，成就大尺寸電視或移動設備高效能顯示屏生產的多種技術發展。”

    應用材料公司的 AKT-PiVot® DT PVD設備（55K 用于 2200mm x 2500mm 玻璃基板，25K 用于 1500mm x 1850mm 玻璃基板）擴展了該公司專有的旋轉陰極陣列技術，能為金屬氧化物以及金屬連線和像素電極提供高度均勻、同質、低瑕疵的成膜。通過 PiVot 形成的、均勻的 IGZO 膜能夠制造出對顯示屏質量至關重要的高度穩定性的薄膜晶體管，是生產小尺寸和大尺寸 OLED 金屬氧化物背板的關鍵。隨著薄膜晶體管越來越小，玻璃基板尺寸越來越大，均勻性和微粒對良品率的影響也大幅增加。與傳統的平面靶相比，AKT-PiVot® PVD設備具有的旋轉靶自我清潔與等離子搖擺控制機能，實現了產品缺陷率的顯著降低與卓越的膜質均勻性。為了有效實現高性價比，獨立的雙軌道設計以較小的占地面積實現了高產能。通過穩固、無非均勻的 IGZO 薄膜，與均勻低缺陷率的金屬連線、像素電極以及新的集成式鈍化層 (AlOx)薄膜的結合，實現了前所未有的技術性能和靈活性。

    應用材料公司的新型 AKT 55KS PECVD 設備為 2200mm x 2500mm 尺寸的玻璃基板帶來了領先于市場的精密 PECVD 技術。利用其新型優質的二氧化硅 (SiO2) 工藝，為金屬氧化物晶體管沉積電介質界面，最大程度地減少氫氣雜質，提高晶體管的長期穩定性并優化顯示屏性能。通過持續實現高良品率所需的均勻性和微粒控制，AKT-55KS PECVD 設備為制造優質金屬氧化物薄膜晶體管顯示屏提供了快速而易于實施的技術方案。