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JDI公布基于光刻技術的OLED生產工藝

來源:投影時代 更新日期:2022-05-16 作者:佚名

    日本顯示(Japan Display,簡稱JDI)宣布開發(fā)出一種新型OLED沉積技術,并將其命名為eLEAP,該技術具有成本效益,可用于制造比使用掩模蒸鍍(FMM)生產的更亮、更高效、更持久的OLED。eLEAP 還支持OLED自由形式沉積。JDI將此項新技術視為“顯示技術的歷史性突破”。

JDI公布基于光刻技術的OLED生產工藝

    eLEAP基于光刻方式,不需要任何掩模。主要優(yōu)勢是eLEAP技術生產的OLED顯示器的開口率可以達到60%,而FMM OLED的開口率約為28%。這意味著可以在較低電流下驅動OLED顯示器,從而延長其使用壽命、提高效率并在需要時實現更高的峰值亮度。

    JDI聲稱,eLEAP顯示器的發(fā)射效率和峰值亮度提高了2倍,而使用壽命延長了3倍(這也減少了老化問題)。這些數字是JDI使用300PPI顯示器得出的計算結果。

    eLEAP代表環(huán)境積極、無掩模沉積的光刻、極長的壽命、低功耗和高亮度,以及任何形狀的圖案化。JDI表示,eLEAP可以與公司的HMO(高遷移率氧化物)背板技術相結合,顯著提高OLED顯示性能。eLEAP生產技術可以擴展到8代(2200×2500 mm)基板,甚至更大,適用于從可穿戴尺寸顯示器到電視尺寸的OLED顯示器生產。

    最后,JDI表示,eLEAP降低了運營成本,減少了材料浪費,并且不需要用于面罩的清潔液——這意味著eLEAP顯著減少了材料使用、浪費和二氧化碳排放。

    JDI表示,客戶對此表示出了極大的興趣,目前公司已經在與客戶進行談判,目標是在2022年底之前開始生產eLEAP樣品。JDI還希望能向其他顯示器制造商提供eLEAP技術。

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